tgoop.com/grishkafilippov/30391
Last Update:
Научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний «Элемент», завершили создание первых в России кластерных систем для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ)
Эти установки позволят производить интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм
Институты вошли в число пяти мировых лидеров, обладающих компетенциями в создании и производстве такого оборудования
Основным исполнителем проекта выступил НИИМЭ, который обеспечил строительство чистых производственных помещений, монтаж и подключение опытных образцов оборудования, разработку технологических процессов и их испытания
НИИТМ, в свою очередь, стал основным соисполнителем, разработав само оборудование и приняв участие в проведении испытаний
Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат в том числе перспективную потребность отечественной микроэлектроники, отметил замминистра промышленности и торговли РФ Василий Шпак
По его словам, особую ценность представляет модульность платформы, поскольку она позволяет отрабатывать процессы на существующем оборудовании и служит основой для перехода к более тонким техпроцессам
В «Элементе» пояснили, что оборудование позволяет применять установки как на действующих, так и на планируемых производствах, где используются технологические нормы, реализованные на пластинах 200 мм
Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов и гендиректор НИИТМ Михаил Бирюков отметили, что создание российских кластерных систем для ПХО и ПХТ станет ключевым этапом на пути к технологической самостоятельности отечественной микроэлектроники
BY Дмитрий Конаныхин 🇷🇺
Share with your friend now:
tgoop.com/grishkafilippov/30391