Заметки инженера - исследователя

Forwarded from RUSmicro

🇷🇺 Мнения. Интервью. Россия

Николай Иванович Шелепин, д.т.н., Институт нанотехнологий микроэлектроники РАН, о ландшафте и горизонтах российской микроэлектроники в интервью изданию Время электроники

Что мне показалось интересным:

🔹 Не самое оптимистичное (в плане возможности быстрой реализации) отношение к плану освоения 28-нм технологии на пластинах диаметром 300 мм. Если до 2022 года этот план мог быть реализован до 2027 года, то сейчас это вряд ли возможно и потому, как считает, г-н Шелепин, достижение цели может быть сдвинуто на «неопределенное время». При этом освоение этой технологии остается приоритетом для РФ.

🔹 Скептичен г-н Шелепин и в отношении возможности овладеть техпроцессами ниже 14нм на базе EUV, поскольку для этого нужен далеко не только литограф, но и все остальное оборудование, способное работать с такими технологиями.

🔹 По его мнению, государство провело работу над ошибками, в частности, нарастило финансирование на реализацию Стратегии развития электронной промышленности до 2030 года до сравнимых с инвестициями некоторых других стран (конечно, не уровня США, Китая или Тайваня). Не менее важно и то, что разработки теперь идут по всем стратегически важным направлениям: технологическое оборудование, сверхчистые материалы, САПР, технологии изготовления фотошаблонов, технологии изготовления микросхем.

🔹 Остро стоит проблема кадров. Можно и нужно выделить средства, поставить цели, но кто будет их реализовывать?

🔹 Стратегия получила более конкретное наполнение в виде двух документов: Концепции технологического развития на период до 2030 года и указа президента РФ Основы государственной политики России в области развития электронной промышленности на период до 2030 года и дальнейшую перспективу.

🔹 «Решение обозначенных задач в части достижения технологического уровня 28 нм в 2027 г. и 14 нм в 2030 г. при условии невозможности закупок соответствующего технологического оборудования представляется нереальным».

🔹 Важный тезис, который следует держать в уме, рассуждая об эффективности инвестиций в российскую микроэлектронику – «значительные инвестиции в развитие отрасли начались практически только в 2022 году, и время их отдачи в виде практически реализованных достижений еще не наступило».

🔹 Уровень взаимодействия всего микроэлектронного сообщества с правительством – самый высокий.

🔹 Технологический уровень китайских передовых компаний существенно превосходит российских, вдобавок их больше. Но китайские компании не хотят попасть в ограничительные списки США из-за сотрудничества с РФ. Поэтому закупки зарубежных микросхем, включая китайские, затруднены.

🔹 Параллельный импорт зарубежных микросхем – паллиатив, необходимость, которая не мешает развитию отечественной микроэлектроники.

🔹 Рассчитывать на участие в БРИКС как на фактор, заметно облегчающий развитие российской микроэлектроники – не приходится. (..)

www.tgoop.com/IngeniumNotes/1968

235 viewsMay 8 at 12:58

🇷🇺 Мнения. Интервью. Россия

Николай Иванович Шелепин, д.т.н., Институт нанотехнологий микроэлектроники РАН, о ландшафте и горизонтах российской микроэлектроники в интервью изданию Время электроники

Что мне показалось интересным:

🔹 Не самое оптимистичное (в плане возможности быстрой реализации) отношение к плану освоения 28-нм технологии на пластинах диаметром 300 мм. Если до 2022 года этот план мог быть реализован до 2027 года, то сейчас это вряд ли возможно и потому, как считает, г-н Шелепин, достижение цели может быть сдвинуто на «неопределенное время». При этом освоение этой технологии остается приоритетом для РФ.

🔹 Скептичен г-н Шелепин и в отношении возможности овладеть техпроцессами ниже 14нм на базе EUV, поскольку для этого нужен далеко не только литограф, но и все остальное оборудование, способное работать с такими технологиями.

🔹 По его мнению, государство провело работу над ошибками, в частности, нарастило финансирование на реализацию Стратегии развития электронной промышленности до 2030 года до сравнимых с инвестициями некоторых других стран (конечно, не уровня США, Китая или Тайваня). Не менее важно и то, что разработки теперь идут по всем стратегически важным направлениям: технологическое оборудование, сверхчистые материалы, САПР, технологии изготовления фотошаблонов, технологии изготовления микросхем.

🔹 Остро стоит проблема кадров. Можно и нужно выделить средства, поставить цели, но кто будет их реализовывать?

🔹 Стратегия получила более конкретное наполнение в виде двух документов: Концепции технологического развития на период до 2030 года и указа президента РФ Основы государственной политики России в области развития электронной промышленности на период до 2030 года и дальнейшую перспективу.

🔹 «Решение обозначенных задач в части достижения технологического уровня 28 нм в 2027 г. и 14 нм в 2030 г. при условии невозможности закупок соответствующего технологического оборудования представляется нереальным».

🔹 Важный тезис, который следует держать в уме, рассуждая об эффективности инвестиций в российскую микроэлектронику – «значительные инвестиции в развитие отрасли начались практически только в 2022 году, и время их отдачи в виде практически реализованных достижений еще не наступило».

🔹 Уровень взаимодействия всего микроэлектронного сообщества с правительством – самый высокий.

🔹 Технологический уровень китайских передовых компаний существенно превосходит российских, вдобавок их больше. Но китайские компании не хотят попасть в ограничительные списки США из-за сотрудничества с РФ. Поэтому закупки зарубежных микросхем, включая китайские, затруднены.

🔹 Параллельный импорт зарубежных микросхем – паллиатив, необходимость, которая не мешает развитию отечественной микроэлектроники.

🔹 Рассчитывать на участие в БРИКС как на фактор, заметно облегчающий развитие российской микроэлектроники – не приходится. (..)

BY Заметки инженера - исследователя