В связи с неминуемым появлением отечественного литографа на 350 нм возникает вопрос: а есть ли компании, кто смогут в России создать фотошаблоны для этих станков?

Как выяснилось, есть целых два предприятия:

◾️Зеленоградский инновационно-технологический центр проектирует и изготавливает бинарные шаблоны для производства интегральных схем с проектными нормами до 180 нм на базе специального технологического оборудования

◾️Научно-исследовательский институт измерительных систем им. Ю.Е. Седакова способен проектировать и изготавливать фотошаблоны для технорм, как минимум 350 нм

Правительство Москвы, Минпромторг, Минобрнауки и МИЭТ совместно строят в Зеленограде предприятие по производству фотошаблонов

Предприятие будет изготавливать фотошаблоны, которые применяются при создании интегральных микросхем

Здесь смогут выпускать до 5,5 тысячи фотошаблонов в год

Площадь помещений центра составит 14,5 тысячи кв. метров, около 3 тысяч из них займут «чистые комнаты»

На производстве создадут почти 300 новых рабочих мест

Планируемые сроки завершения строительства не называются

Отметим, что при осмотре помещений будущего Центра фотошаблонов мэра Собянина сопровождал бывший ректор, а ныне научный руководитель МИЭТа и руководитель Российского научного фонда Владимир Беспалов

В России создали первую в стране кластерную установку для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм

Прежде для выполнения этой операции использовали импортное оборудование, а отечественные машины, в большинстве своем, были рассчитаны на технологические процессы, ориентированные на 200-миллиметровые кремниевые подложки

Новое оборудование разработали в Научно-исследовательском институте точного машиностроения НИИТМ

Новый комплекс предназначен для обработки кремниевых пластин диаметром 300 мм с возможностью изменения конфигурации для работы с пластинами 200 мм. Это дает возможность тестировать работу установки на производствах с учетом действующих 200-миллиметровых технологических процессов и обеспечить своевременную подготовку к переходу на работу на 300-миллиметровых пластинах

Одно из ключевых достижений специалистов заключается в том, что в короткое время удалось локализовать производство значительного количества составных частей оборудования

Вместе с тем базовые технологические процессы, созданные в рамках проекта, не уступают импортным аналогам

До недавнего времени машины такого типа закупались за рубежом, однако линейки отечественных промышленных установок, адаптированных под 300-миллиметровый формат, позволят укрепить технологический суверенитет страны и ее позиции на мировом рынке

В частности, Россия для многих стран, заинтересованных в развитии микроэлектроники, может стать альтернативным поставщиком оборудования для ее производства

Создание нового комплекса началось в конце 2021 года

В процессе разработки ученые-инженеры изготовили опытный образец кластерной структуры, который состоит из четырех различных технологических модулей, объединенных общей роботизированной транспортной системой для перемещения пластин

Комплектование кластеров из отдельных модулей позволяет гибко конфигурировать оборудование в зависимости от потребностей и мощности производств

Это наиболее предпочтительно для современных фабрик

Причем разработанные в НИИТМ система управления и программное обеспечение также дают возможность адаптировать технику под конкретного потребителя

ПХО — это один из базовых процессов при производстве микросхем

В результате на поверхности обрабатываемой пластины формируется диэлектрический слой, который выполняет функцию изолятора между разными частями чипа

Для проведения осаждения пластины помещают в реактор. Туда же подается газ, который под действием высокочастотного разряда превращается в плазму. В результате происходит химическая реакция, и на поверхности пластины образуется тонкая пленка. Данный метод позволяет создавать качественные покрытия с высокой точностью

Разработанные и апробированные в рамках проекта технологии применимы как для существующих проектных норм, так и для перспективных — вплоть до интегральных схем с топологией 28 нанометров

Сейчас опытный образец кластерного комплекса находится на этапе заключительных доработок и к лету пройдет тестовые испытания

Их проведут на площадке НИИ молекулярной электроники

Создание российской установки ПХО — хорошая для отрасли новость, поскольку это очередной шаг вперед в реальном импортозамещении. Речь идет о еще одном краеугольном камне в фундаменте полного цикла производства микроэлектроники в нашей стране. Стоит отметь, что в скором времени дело может дойти и до конкуренции между отечественными поставщиками, поскольку в НИИ молекулярной электроники также занимаются разработкой кластера плазмохимического осаждения под техпроцессы 90–65 нанометров

Вместе с тем он отметил, что установка ПХО — лишь одна из нескольких (их более десятка) различных станков, которые задействованы в процессе работы с пластинами

Наряду, например, с фотолитографами, установками плазмохимического травления, эпитаксии

Поэтому, чтобы производить полупроводники и говорить об импортозамещении в этой области, нужно наладить выпуск в России всех необходимых станков

Учитывая близость технологий плазмохимического осаждения и травления, можно ожидать, что НИИТМ вскоре предложит оборудование и для этого процесса