Гендиректор «Байкал Электроникс» Андрей Евдокимов рассказал о завершении трехлетнего эксперимента по корпусированию процессоров Baikal M на мощностях предприятия GS Nanotech в Гусеве Калининградской области

Он отметил, что, несмотря на «довольно позитивные результаты», эксперимент пришлось прекратить из-за дефицита компонентов на рынке

Кристаллов сейчас нет или их не хватает для того, чтобы собрать чипы и раздать партнерам. Поэтому на развитие эксперимента мы не пошли, не было возможности. А в целом я его оцениваю позитивно и считаю, что это был шаг вперед

На этапе завершения эксперимента по корпусированию процессоров Baikal M компании удалось получить 74–85% годной продукции, поделился гендиректор GS Nanotech Сергей Пластинин

Учитывая сложность изделия, это очень достойный результат

Для достижения доли в 98% необходим гораздо больший объем кристаллов

По его словам, чтобы получить отлаженный серийный технологический процесс, необходимо собирать хотя бы 1 тыс. микросхем в месяц

В нашем случае речь шла лишь о десятках штук

Как заявляют в компании, весной этого года GS Nanotech закорпусировал опытную партию микросхем для Malt System

Для этого проекта были разработаны специальная подложка из 26 слоев и технология установки восьми кристаллов в один корпус методом flip-chip (метод, когда интегральная схема переворачивается и устанавливается на выводы) с дополнительным монтажом более 200 SMD-компонентов (компоненты электронной схемы, нанесенные на плату: светодиоды, резисторы и т. п.)

В GS Nanotech заверяют, что процент годной продукции в этой опытной партии составил 100%

В НПЦ «Элвис» комментировать эксперимент отказались

Крупнейший кремниевый завод России, АО «Кремний» (входит в группу «Русала»), приостановит производство с 1 января 2026 года.

Причиной стали мировой профицит кремния и рост импорта по демпинговым ценам

Представители компании отметили, что «"Кремний" вынужденно приостанавливает производство», а «завод "Кремний Урал" продолжит работать в неполную мощность»

«Кремний» уже уведомил правительство Иркутской области о приостановке производства и надеется совместно найти решения для минимизации социальных последствий

Ранее «Русал» объявил о снижении производства кремния на 35% в 2025 году, до 35 тыс. т.

В 2024 году выпуск составил 53,4 тыс. т.
Производственная мощность завода «Кремний» — 34 тыс. т в год, а «Кремний Урал» — 27 тыс. т.

Эти предприятия являются единственными производителями рафинированного кремния в России, где годовая емкость рынка составляет около 45 тыс. т.

Группа компаний «Элемент» планирует создать фаундри-центр кремниевой фотоники, который будет разрабатывать и производить набор базовых элементов фотонных интегральных схем

На проект компания закладывает 560 млн руб., а сроки реализации планируются с 2026 по 2027 г.

В совокупности к 2030 г. компания планирует обеспечить рынок фотоники не менее чем 17 типами продуктов оптоэлектроники и интегральной фотоники

Потенциальными исполнителями проекта ГК «Элемент» в презентации называет входящее в группу АО «Микрон», которое и будет выступать в роли фаундри (микроэлектронное производство)

Разработкой подложек «кремний на изоляторе» может заняться структура «Росатома» НИИ измерительных систем им. Ю. Е. Седакова (НИИИС)

Среди возможных дизайн-центров в презентации указаны научно-исследовательские университеты, такие как «Сколтех» и МФТИ, а измерениями может заняться Научно-исследовательский физико-технический институт (НИФТИ) или Институт физики металлов РАН

Себестоимость одной пластины с фотонной интегральной схемой (ФИС), по оценке ГК «Элемент», – $2500–6000 (по курсу ЦБ на 19 ноября 2025 г. 80,9 $/руб. – от 202 250 до 485 400 руб.)

Проект будет осуществлен на мощностях «Микрона», поскольку он является единственной фабрикой в России, производящей микроэлектронные чипы по техпроцессу 90 -180 нм

Фотонные разработки в ГК «Элемент» ведутся уже не первый год

В группе, помимо завода «Микрона», присутствуют еще три компании: «Коннектор Оптикс», специализирующаяся на разработке и производстве подложек для специализированных лазеров, НЗПП, сконцентрированный на фотоприемных устройствах, и НИИМЭ, где функционирует лаборатория радиофотоники

Основными заказчиками пока будут выступать университеты и исследовательские лаборатории, подчеркнул представитель «Элемента»

Что вы знаете про российскую архитектуру процессоров серии КОМДИВ?

А про алмазную электронику?

Может быть вы слышали про "вечную" ядерную батарейку? Для бытовых приборов

Или ваши дети знакомы с Пиктомиром, внедренным в сотни школ России?

Если про что-то вы не слышали - самое время посмотрить видео про редкого гостя любых публичных упоминаний - НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЦЕНТР "КУРЧАТОВСКИЙ ИНСТИТУТ"

Ну и про НИЦ "Курчатовский Институт" - НИИСИ, одногоиз двух исторических разработчиков универсальных процессоров на отечесвтенной архитектуре

Как сделать российских детей гениями? Кодинг для малышей от Курчатовски институт - НИИСИ

VK

RUTUBE

YOUTUBE

00:00 Курчатовский институт на Микроэлектронике 2025
00:52 Сергей Ранчин – Директор НИЦ «Курчатовский институт» – НИИСИ
04:56 Разработки НИИСИ. ПЛК для пищевой промышленности
06:41 Запуск 2 ОС на базе одного процессора КОМДИВ
12:18 Коммутатор
13:38 Разработка и производство микропроцессоров НИИСИ
17:40 Микросхема Коммутатор доступа
18:17 Тестирующая плата
18:40 Микросхемы для счетчиков элетроэнергии
19:33 Отладочная плата
19:39 Исследовательские платы
20:11 Производство НИЦ "Курчатовский институт"
26:30 Разработки Курчатовского института
28:00 Нитрид-галиевые СВЧ модули
28:54 Алмазная электроника. Что это?
30:52 Свойства алмазной электроники
33:31 Сверхпроводниковые изделия
34:55 Нейроморфные вычисления
38:36 Пиктомир – программирование для малышей
44:09 Интервью с профессором – Леонов Александр Георгиевич

Telegram | Дзен | MAX

Российский научный коллектив предложил новую технологию, приближающую массовое производство солнечных батарей нового поколения, сообщили в пресс-службе Минобрнауки РФ

Ученые дополнили перовскитную батарею химическим соединением на основе валериановой кислоты

Коллектив исследователей из НИТУ МИСИС, ИТМО и ИОНХ РАН разработал способ химической стабилизации, который вдвое увеличил надежность работы солнечных элементов при термоциклировании. Ученые применили ультратонкий слоистый перовскит на основе валериановой кислоты для компенсации состояний йода, свинца и азота в присутствии постоянной влажности и кислорода

Перовскитные солнечные элементы третьего поколения относятся к наиболее перспективным разработкам в области фотоэнергетики

Их эффективность сопоставима с показателями кремниевых полупроводников, но при этом, благодаря широкому диапазону поглощения света, они могут эффективно работать в условиях малой освещенности, характерной, например, для средней полосы России, особенно в осенне-зимний период

Несмотря на большие перспективы, перовскитные солнечные элементы остаются чувствительными к влиянию окружающей среды из-за внутренних и внешних химических процессов

На границах слоев между зернами перовскита есть вероятность образования дефектов, приводящих к утечкам тока и замедлению времени отклика

Перовскит на основе валериановой кислоты призван решить эту проблему

Он образует защитную прослойку, а на молекулярном уровне ограничивает миграцию ионов и улучшает контакт между слоями материала, повышая производительность солнечного модуля

Малая толщина поглощающего слоя позволяет создавать тонкопленочные структуры с помощью простых и недорогих методов нанесения

В перспективе гибкие солнечные проводники можно будет размещать на фасадах домов, крышах, окнах и балконных ограждениях зданий

Проект поддержан грантом Российского научного фонда

Результаты опубликованы в научном журнале Applied Surface Science

Программа по развитию электронного машиностроения в России недофинансирована на 33,1 млрд руб.

Об этом рассказал замминистра промышленности Василий Викторович Шпак в ходе форума «Электроника России»

Программа развития электронного машиностроения предусматривает импортозамещение около 70% оборудования и материалов для производства микроэлектроники к 2030 г.

В рамках программы планируется разработать отечественное оборудование для производства 20 технологических маршрутов, включая микроэлектронику (от 180 до 28 нм), СВЧ-электронику, фотонику, силовую электронику и другие

На это выделено бюджетное финансирование в размере более 240 млрд руб. до 2030 г.

В реализации задействовано более 50 организаций

Необходимый объём финансирования программы с учётом недофинансирования прошлых лет оценивают в 123,9 млрд руб. , а объём бюджетных ассигнований на финансирование НИОКР, включая электронное машиностроение на 2026-2028 гг., составил всего 90,8 млрд руб.

Запланированный объём финансирования в 2024 г. — 43,3 млрд руб.

Фактический составил 23,7 млрд руб.

В 2025 г. при плане в 40 млрд руб., реальный объём выделенных властями средств оценивается в 15,7 млрд руб.

На 2026 г. запланировано 30 млрд руб., на 2027 г. и 2028 г. — по 25 млрд руб.

К концу 2025 г. отставание по запуску НИОКР может достигнуть свыше 60 работ

Вероятно, сроки разработки и производства сильно сдвинутся — отказываться от части задуманного никто не собирается

Минпромторг начнет компенсировать компаниям – производителям электроники до 30% от стоимости приобретаемой единицы отечественного оборудования для производства радиоэлектронной продукции

Максимальный размер компенсации составит 50 млн руб. на единицу оборудования

Также ведомство планирует предоставлять льготные кредиты по ставке 3–5% на организацию серийного производства оборудования для производства электроники

В совокупности на эти цели Минпромторг готов выделить около 3 млрд руб. в 2026–2028 гг.

Об этом на форуме «Электроника России 2025» 25 ноября 2025 г. заявил замминистра промышленности и торговли Василий Шпак

Отечественный производитель оборудования также сможет взять льготный кредит на организацию производства сроком на семь ле

Предельный размер такого займа составит 300 млн руб., из которых Фонд развития промышленности (ФРП) должен будет компенсировать 50%

Для получения этих мер поддержки необходимо будет внести оборудование в реестр российской промышленной продукции, подчеркнул Шпак

Для этих целей Минпромторг разработал поправки в постановление правительства № 719 (№ 719 ПП; определяет степень «отечественности» продукции), которые в начале 2026 г. регулятор планирует опубликовать

По словам замминистра, такие меры необходимы для расширения собственного производства

В условиях сегодняшней денежно-кредитной политики достаточно сложно привлекать кредиты и инвестировать в развитие собственного производства

Помимо этого необходимо повышать доверие потребителей к создаваемым российским решениям

Это вызвано комплексом проблем – в частности, проблематичностью обработки продукции и технологических процессов потребителей

Для того чтобы повышать доверие, необходимо перенастраивать производственные линии, считает Шпак

Власти выделили 54,5 млрд руб. на создание центров внедрения микроэлектроники в России

Речь идет о двух центров в Зеленограде

Как следует из презентации Минпромторга, на создание «Базового центра» выделили 50 млрд руб.

Его площадь составит 9 тыс. кв. м.

Он будет работать с микроэлектроникой и силовой электроникой по технологии 250-90 нанометров (нм) на пластинах диаметром 200 мм.

В эксплуатацию центр будет введен в 2028 г.

Второй центр под названием «Стартовый» будет работать на базе Национального исследовательского университета «Московского института электронной техники» (НИУ МИЭТ) также в Зеленограде

На него выделили 4,5 млрд руб., следует из документа министерства

Он тоже будет работать по направлениям силовая электроника и микроэлектроника, но на пластинах диаметром 100-150 мм (по топологии более 180 нм)

Его площадь составит 3 тыс. кв. м., а введен в эксплуатацию он будет в 2028 г.

Еще один центр «СВЧ-электроники» планируется открыть на базе ФТИ им. Иоффе в Санкт-Петербурге. Вложений на проект не предусмотрено

Центр будет работать с пластинами 100-150 мм по топологии более 350 нм

Его площадь составит 0,5 тыс. кв. м и внедрить его в эксплуатацию планируют в 2027 г.

Предполагается на базе таких центров доводить до уровня серийной продукции результаты опытно-конструкторских работ по направлениям отечественного оборудования и материалов для производства микроэлектроники

Опубликованы изменения в балльную систему промышленности, которые определяют «российскость» установок для производства чипов

В реестр будут включены оборудование для эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур, литографы, установки для ионной имплантации, для производства полупроводниковых слитков, для термической обработки пластин

Требования планируют ввести с 1 января 2026 г.

Среди требований к российским литографам присутствуют: применение российских источника излучения (30 баллов), катодного узла (30 баллов), объектива (30 баллов), оптического тракта (30 баллов), электронно-оптической системы (30 баллов), вакуумных насосов (30 баллов), детектора электронов (10 баллов), модуля совмещения (30 баллов), механизма загрузки-выгрузки пластин (10 баллов) и их перемещения (20 баллов), источника высоковольтного питания (30 баллов) и бесперебойного питания (10 баллов)

Помимо этого, присутствуют электротехнические компоненты, за которые можно получить 10 баллов, каркас (10 баллов), центральный контроллер системы управления (20 баллов), устройства сопряжения с исполнительными устройствами (20 баллов)

В отечественном оборудовании для производства полупроводниковых слитков потребуются применять: российский станин (10 баллов), тепловой узел (30 баллов), камеру (20 баллов), устройства резистивного или индукционного нагрева (20 баллов), механизм вытягивания, вращения монокристалла или механизм перемещения, загрузки тиглей в рабочую камеру (20 баллов)

Баллы также можно получить за российские материалы (20 баллов), системы снятия температурного профиля (10 баллов), вакуумные насосы (20 баллов), газо-вакуумные системы (20 баллов), гидросистемы (система охлаждения теплового узла) (10 баллов), пневмосистемы (20 баллов), узлы питания установкой (10 баллов), центральный контроллер (20 баллов), устройства сопряжения с исполнительными устройствами (20 баллов)

Баллы производители установок эпитаксального выращивания полупроводниковых структур получат за применение российских реактора или вакуумной камеры (30 баллов), приборов контроля технологического процесса (30 баллов), вакуумных насосов (30 баллов), центральный контроллер системы управления (20 баллов), механизм загрузки-выгрузки пластин (10 баллов) и перемещения пластины в установке (20 баллов), источников прекурсоров для эпитаксиального роста: молекулярных источников или инжекторов газов (30 баллов), систему подачи и коммутации рабочих газов (10 баллов) и т.д.

При этом по 20 баллов для каждого типа оборудования начисляется за отработку базового технологического процесса, а также по 30 за применение пользовательского, включая сервисное ПО «верхнего уровня» и ПО «нижнего уровня»

Среди обязательных требований для всех установок присутствуют требования: не быть подконтрольным иностранной компании, иметь на территории ЕАЭС сервисный центр, осуществлять сборку оборудования, установку и отладку ПО, а также наладку и тестирование установки

Для эпитаксального оборудования требования с 1 января 2026 г. до 31 декабря 2028 г. потребуется набрать не менее 130 баллов, с 1 января 2029 г. до 31 декабря 2031 г. — не менее 190 баллов, с 1 января 2032 г. — не менее 250 баллов

Производителям оборудования химико-литографическое для обработки полупроводниковых пластин и формирования топологического рисунка с 1 января 2026 г. до 31 декабря 2028 г. нужно набрать не менее 80 баллов, с января 2029 г. до 31 декабря 2031 г. — не менее 160 баллов, с 1 января 2032 г. — не менее 170 баллов

А оборудования для производства полупроводниковых слитков — с 1 января 2026 г. до 31 декабря 2028 г. не менее 90 баллов, с 1 января 2029 г. до 31 декабря 2032 г. — не менее 140 баллов, с 1 января 2032 г. — не менее 210 баллов

Минпромторг заказал разработку и производство опытной партии фоторезистов ​​для литографии за 390 млн руб.

Закупка опубликована на портале госзакупок 25 ноября

Согласно документации, полученный химический состав планируется использовать в производстве процессоров с топологией 310–440 нм

Согласно описанию объекта закупки, «актуальность работы обусловлена сокращением, а в некоторых случаях прекращением поставок фоторезистов иностранного производства для литографии»

Российские разработки аналогичных материалов и их производство отсутствуют, пишет Минпромторг

Это не первая закупка для разработки и освоения производства фоторезистов

В 2023 г. Минпромторг запускал НИР (научно-исследовательскую работу) «Фотолиз» с бюджетом 1,1 млрд руб. по техпроцессу 248 нм

Потенциальными потребителями материалов в документе были указаны АО «Микрон» (входит в ГК «Элемент») и ООО «НМ-тех», а работы должны быть выполнены до 12 декабря 2025 г.

В феврале 2025 г. сообщалось о том, что российский производитель микроэлектроники «Микрон» тестирует первый высокочувствительный фоторезист отечественного производства для техпроцессов 90 нм.

Этот фоторезист выпускается на предприятии Приволжского федерального округа, обеспечивающего более 40% от общего объема производства российских химических материалов

Среди российских производителей фоторезистов есть НИИ органических полупродуктов и красителей (АО «НИОПИК») в Долгопрудном и ООО «Фраст-М» (Зеленоград)

Первый выпускает жидкие фоторезисты, а второй – пленочные

ГК «Элемент» поставила дочерней структуре «Роскосмоса» «Российские космические системы» (РКС) испытательное оборудование – автоматическую камеру термоудара (АКТУ)

Об этом сообщил генеральный директор НИИ электронной техники (НИИЭТ, входит в ГК «Элемент») Павел Куцько

Это оборудование необходимо для проверки устойчивости электронно-компонентной базы (ЭКБ) к резким перепадам температуры

По словам Куцько, оборудование было изготовлено в соответствии с индивидуальным техзаданием РКС

В отличие от иностранных аналогов, работающих на дорогостоящих специализированных жидкостях, отечественное решение работает на этиловом спирте или жидком азоте в качестве хладагентов

Это позволит существенно сократить эксплуатационные расходы

ООО "Московский центр фотоники" (ОЭЗ "Технополис", Зеленоград) ввело в строй комплекс по выпуску фотонных интегральных схем (ФИС) проектной мощностью до 2 тыс. производственных пластин в год и до 500 тыс. фотонных чипов в зависимости от топологии и функционального назначения, сообщил Минпромторг РФ

Данные параметры позволяют обеспечить как выпуск опытно-промышленных серий, так и масштабируемое серийное производство на уровне, достаточном для удовлетворения потребностей ключевых отраслей российской экономики

На церемонии запуска новой линии присутствовали министр промышленности и торговли РФ Антон Алиханов и мэр Москвы Сергей Собянин

По линии Минпромторга России предусмотрено субсидирование в объеме 2,512 млрд рублей в рамках механизма поддержки создания критически значимых технологий. Создание собственного производства ФИС позволит заместить критический импорт зарубежных компонентов в области высокоскоростной передачи и обработки данных, формирования современной телекоммуникационной и вычислительной инфраструктуры, а также развития сенсорики

Объем выпуска ФИС на площадке "Московского центра фотоники" составляет примерно 10% от объема внутреннего рынка, заявил Алиханов

Поэтому уверен, что у Москвы, у этой площадки есть еще большие перспективы к развитию. Очень важно, Сергей Семенович об этом сказал, что Москва не останавливается на достигнутом. У нас сегодня еще будет возможность обсудить развитие центров фотошаблонов - крайне важный проект, и наше министерство тоже активно его поддерживает, изыскивает средства для того, чтобы как можно скорее его запустить

По его словам, фотонные интегральные схемы являются базовым элементом информационной инфраструктуры, обеспечивая кратный рост пропускной способности соединений, снижение энергопотребления и увеличение скорости обмена данными по сравнению с традиционными электронными решениями

Площадь "Московского центра фотоники" составляет 26,7 тыс. кв. м, основной продукцией предприятия являются фотонные интегральные схемы (ФИС), сообщала ранее мэрия Москвы

Применяемые в трансиверах ФИС обеспечивают передачу данных со скоростью свыше 100 Гбит/с при снижении энергопотребления до 10 раз и уменьшении размеров устройств до 20 раз

Производимая здесь продукция позволит увеличить скорость передачи данных в 50-100 раз, что критически важно для телекоммуникаций, в том числе создания сетей связи пятого поколения (5G) на базе отечественного оборудования, космической связи, а также реализации проектов в сфере развития искусственного интеллекта, биомедицины и других высокотехнологичных отраслей

Специалисты МГТУ имени Баумана, ВНИИА имени Духова госкорпорации "Росатом" создали и открыли доступ к облачной платформе, которая позволяет пользователям запускать алгоритмы и проводить опыты на квантовых сопроцессорах SnowDrop 4Q и SnowDrop 8Q и их программных эмуляторах

Облачная платформа Bauman Octillion - это новый инструмент изучения квантового мира с акцентом на практические применения. Мы последовательно расширяем линейку доступного железа - от четырех к восьми кубитам - впервые в российской квантовой индустрии. Мы приглашаем всех заинтересованных исследователей подключаться к нашему облаку и проводить опыты на реальных чипах, не покидая стен своих лабораторий

Разработанная специалистами МГТУ и ВНИИА имени Духова платформа предоставляет круглосуточный и постоянный доступ к квантовому сопроцессору SnowDrop 4Q, построенному на базе четырех сверхпроводниковых кубитов

Эта вычислительная машина способна осуществлять однокубитные и двухкубитные операции с очень высокой точностью, составляющей порядка 99,89% и 99,1%

Также в рамках платформы специалисты МГТУ в промежутке между 10 и 20 декабря предоставят научному сообществу тестовый доступ к новому квантовому сопроцессору, SnowDrop 8Q на базе восьми сверхпроводниковых кубитов с еще более высоким уровнем точности исполнения операций и считывания данных

Как ожидают физики, увеличение числа кубитов и повышение качества их работы позволит ученым проверить работу более сложных алгоритмов

Удвоение числа кубитов в процессоре SnowDrop 8Q привело к 16-кратному увеличению вычислительного пространства, поддерживаемого устройством, что существенным образом расширило потенциал его применения

Также ученые отмечают, что высокая точность квантовых операций позволит пользователям платформы сопоставлять результаты, полученные на двух разных чипах и проверять параметры работы сопроцессоров

Наша цель как разработчиков и алгоритмистов - перейти к полезным "квантам", когда научные группы всей страны смогут решать сложнейшие практические задачи с использованием вычислителей на новых физических принципах. Запуск нового восьмикубитного чипа с высокими точностями квантовых логических вентилей - важный шаг на пути к этому результату

Минпромторг отменил часть тендеров, которые критически необходимы для суверенной работы отечественных литографов

Так, министерство отменило тендер на освоение в России опытно-промышленного производства слитков фторида кальция монокристаллического для оптических элементов ультрафиолетовой фотолитографии за 1,6 млрд руб.

Тендер был размещен 25 ноября 2025 г. и отменен 1 декабря

Слитки фторида кальция монокристаллического применяются при изготовлении оптических элементов эксимерных лазеров с длиной волны 193 нм, входящих в состав высокоразрешающих фотолитографических установок, обеспечивающих производство изделий электронной компонентной базы (ЭКБ) с топологической нормой 90 нм и ниже

Министерство отменило и тендер на разработку технологии получения и постановки на производство монокристаллов тербий скандий лютеций алюминиевого граната за 400 млн руб.

Он нужен для изготовления поляризационного оптического изолятора (ячейки Фарадея), элемента лазерных систем, пропускающего свет только в одном направлении

Потребителями его являются изготовители лазерных систем и ячеек Фарадея: АО «НИИ «Полюс им. М.Ф. Стельмаха», ООО «АВЕСТА», ООО «ВПГ ЛАЗЕРУАН»

Внедрение разработанной технологии и организация производства такого материала позволит обеспечить создание отечественных лазерных систем современного уровня

Отменен был и тендер на разработку технологии изготовления порошков танталовых конденсаторных за 800 млн руб.

Материал нужен для изготовления анодов оксидно-полупроводниковых и оксидно-электролитических объемно-пористых танталовых конденсаторов

Пока наши производители для обеспечения функционирования, стабильности технических параметров при изготовлении оксидно-полупроводниковых конденсаторов используют танталовые порошки с высоким удельным зарядом зарубежного производства, отечественные материалы-аналоги с уровнем параметров и характеристик, соответствующих настоящим техническим требованиям, отсутствуют

Минпромторг оштрафовал дизайн-центр НТЦ «Модуль» на 53,4 млн руб. за просрочку освоения серийного производства процессора для построения бортовых вычислительных комплексов космических аппаратов нового поколения с элементами ИИ

Однако исполнитель собирается обжаловать претензию, т.к. задержка была вызвана санкциями и отсутствием в стране ключевых материалов для выполнения работ

«Модуль» должен был разработать управляющий процессор типа система-на-кристалле, содержащий интерфейсы для эффективного обмена данными с нейропроцессорами архитектуры NeuroMatrix и предназначенный для построения бортовых вычислительных комплексов космических аппаратов нового поколения с элементами ИИ

Министерство заключило контракт с НТЦ «Модуль» на эти работы в ноябре 2020 г.

Он должен быть завершен в декабре 2023 г. И ведомство уже штрафовало исполнителя на 46 млн руб. в апреле 2025 г. за срыв сроков

Работы проводятся в рамках программы «Развитие оборонно-промышленного комплекса»

Научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний «Элемент», завершили создание первых в России кластерных систем для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ)

Эти установки позволят производить интегральные микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм

Институты вошли в число пяти мировых лидеров, обладающих компетенциями в создании и производстве такого оборудования

Основным исполнителем проекта выступил НИИМЭ, который обеспечил строительство чистых производственных помещений, монтаж и подключение опытных образцов оборудования, разработку технологических процессов и их испытания

НИИТМ, в свою очередь, стал основным соисполнителем, разработав само оборудование и приняв участие в проведении испытаний

Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат в том числе перспективную потребность отечественной микроэлектроники, отметил замминистра промышленности и торговли РФ Василий Шпак

По его словам, особую ценность представляет модульность платформы, поскольку она позволяет отрабатывать процессы на существующем оборудовании и служит основой для перехода к более тонким техпроцессам

В «Элементе» пояснили, что оборудование позволяет применять установки как на действующих, так и на планируемых производствах, где используются технологические нормы, реализованные на пластинах 200 мм

Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов и гендиректор НИИТМ Михаил Бирюков отметили, что создание российских кластерных систем для ПХО и ПХТ станет ключевым этапом на пути к технологической самостоятельности отечественной микроэлектроники

PS
Если главред 3dnews не добавил окончание про 20 лет в заголовок, то Земля налетела бы на Небесную Ось и пришел конецЪ мiра, ну или жопа бы отвалилась - это совершенно понятно, иных объяснений быть и не может

Правительство ужесточило правила подтверждения российского происхождения запоминающих устройств (SSD) и модулей памяти (DDR)

Поправки внесены 8 декабря 2025 г. в приложение к Постановлению № 719 «О подтверждении производства российской промышленной продукции»

Теперь производители таких устройств смогут получать баллы за определенные технологические операции

Например, за корпусирование интегральной схемыф энергонезависимой флеш-памяти производитель получит 20 баллов, как и за корпусирование интегральной схемы центрального микроконтроллера

В два раза больше (45 баллов) можно будет получить за монтаж всех элементов электронной компонентной базы на печатную плату и сборку готового изделия

За запись в энергонезависимую память идентифицирующей информации для схемотехнического решения теперь дадут пять баллов и за функциональное тестирование готового изделия и проведение технического контроля соответствия требованиям технических условий готового изделия еще 10

Изменения вступают в силу 1 января 2026 г.

Производителям SSD с 1 января 2026 г. нужно будет набрать не менее 45 баллов; с 1 января 2028 г. — не менее 55 баллов; с 1 января 2030 г. — не менее 75 баллов

Для DDR определено чуть меньше баллов: с 1 января 2026 г. — не менее 45 баллов; с 1 января 2028 г. — не менее 60 баллов; с 1 января 2030 г. — не менее 70 баллов