▶️ 130 нм хватит на всех.

В руки редакции попала презентация Зеленоградского нанотехнологического центра (ЗНТЦ) о литографических решениях 130 нм для фотонных интегральных схем. Интересно то, что несмотря на погоню за 2 нм и разговорами «а вот у них, пока у нас…» кроется некая истина, заключающаяся в том, что 70% всех масок производится на техпроцессах 130+. Не, безусловно, к уменьшению топологии необходимо стремиться, и мы всеми руками поддерживаем то, что Россия в целом занялась литографами и микрухой, но давайте глянем на цифры по миру.

Глобальный рынок фотонных интегральных схем демонстрирует впечатляющую динамику. Согласно аналитическим данным, объем рынка увеличится с $14,85 млрд в 2024 году до $97,6 млрд к 2034 году. Сегмент кремниевой фотоники показывает аналогичные тенденции, увеличиваясь с $2,65 млрд до $9,65 млрд за аналогичный период. Ключевыми драйверами роста выступают телекоммуникационный сектор, развитие ЦОД и технологии ИИ и машинного обучения.

Если глянуть на сегменты подробней, то окажется, что в 2024 году в производстве телеком-оборудования 85% объема – это 130 нм. В центрах обработки данных – 75%.

В других сегментах картина следующая: LiDAR-системы – 90%, биосенсоры – 70%, микроволновая фотоника – 80%. Исключение составляет только квантовая фотоника, где доля технологии 130+ нм составляет 40%.

Предпочтение техпроцесса в 130 нм обусловлено оптимальным соотношением цены и качества. Стоимость комплекта фотошаблонов для схем на уровне 130 нм составляет приблизительно $750 тыс., в то время как аналогичный комплект для 90-нм технологии обходится в $1 млн. Выход годных изделий на технологии 130 нм достигает 80-90%, что удовлетворяет требованиям рынка.

Российский рынок фотонных интегральных схем к 2034 году составит $4,9 млрд руб. (ок. 5% мирового), из которых $2,9 млрд будет все еще приходиться на 130+ нм. Потребность в литографических установках составит 15-25 штук.

Но, возвращаясь к началу размышлений, развитие не стоит на месте. Недавно, ЗНТЦ завершил разработку первого в России фотолитографа 350 нм и работает над созданием следующего поколения оборудования с технологическими нормами 130 нм, который должен быть освоен в следующем году. ГК «Элемент» также заявляет, что к 2027 году производство ожидает перехода на 90 нм, с перспективой освоения процесса в 65 нм к 2030 году на отечественных литографах.

™️ Телекоммуналка